Les processeurs pourraient coûter moins cher grâce à ces machines.
ASML a réussi à augmenter la puissance de sa source lumineuse EUV à 1 000 watts, surpassant le plafond précédent d’environ 600 watts. D’ici la fin de la décennie, les usines pourront produire 330 wafers par heure contre 220 aujourd’hui.
Fabriquer des processeurs requiert une précision extrême. Le géant néerlandais ASML vient de franchir de nouvelles frontières de la physique avec une machine capable de générer un plasma plus chaud que celui du Soleil. Cela promet une augmentation de la production de puces de 50 % d’ici 2030 et constitue un coup dur pour ses concurrents.
Le marché des semi-conducteurs prend des allures de thriller géopolitique. ASML occupe une position centrale en tant qu’**unique entreprise au monde capable de fournir des scanners à lithographie extrême ultraviolette (EUV)**, essentiels pour des géants tels que TSMC, Intel ou SK Hynix afin de graver les puces avancées utilisées dans nos smartphones et nos futurs serveurs d’intelligence artificielle. Cette position enviée pousse la société à innover de manière radicale pour conserver son avance.
Les chercheurs d’ASML ont élevé la puissance de leur source lumineuse EUV à 1 000 watts, dépassant ainsi l’ancien record d’environ 600 watts. En pratique, cette hausse d’énergie réduit le temps d’exposition des tranches de silicium. Teun van Gogh, responsable de la gamme NXE, déclare qu’à la fin de la décennie, les usines pourront traiter 330 wafers par heure, contre 220 actuellement. Cette cadence fulgurante contribuera à diminuer le coût de fabrication de chaque processeur.
Pour appréhender ce progrès majeur, il faut examiner le fonctionnement complexe de l’EUV. La machine utilise un puissant laser au dioxyde de carbone pour frapper de minuscules gouttes d’étain en fusion. **Cet impact entraîne la création d’un plasma dont la température dépasse celle du Soleil**, produisant une lumière d’une longueur d’onde de 13,5 nanomètres, ensuite dirigée par des optiques de haute précision fournies par l’Allemand Carl Zeiss AG.
Pour atteindre le seuil du kilowatt, ASML a doublé la cadence en heurtant 100 000 gouttes par seconde, tout en remplaçant l’impulsion laser unique par une double frappe pour mieux façonner le plasma. Michael Purvis, technologue en chef chez ASML, affirme que **ce n’est pas un simple tour de magie de laboratoire**, le système résiste aux exigences strictes de ses clients. L’entreprise évoque même un chemin clair vers 1 500, voire 2 000 watts.
ASML doit défendre son monopole face aux embargos interdisant l’exportation de ses machines les plus avancées vers la Chine. Privé de ces outils, **l’Empire du Milieu développe sa propre chaîne d’approvisionnement pour contourner les sanctions**. Huawei est à l’avant-garde, avec une immense usine à Guanlan, visant la gravure en 7 nm en récupérant des pièces d’anciennes machines ASML sur le marché secondaire, espérant produire un prototype fonctionnel d’ici 2028.
Parallèlement, **les États-Unis soutiennent leurs propres alternatives**. Des startups américaines telles que Substrate ou xLight (associée à Pat Gelsinger et financée par des fonds de l’administration Trump) ont levé des centaines de millions de dollars.
